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        半導體工業純水制取用的是反滲透工藝還是去離子

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        半導體工業純水制取用的是反滲透工藝還是去離子

        文章作者: 宏森環保

           眾所周知,電子半導體工業對于純水的要求是極高的,水質需達到一定的標準才可以使用,而隨著市場上的純水設備型號越來越多,加工車間即使在確定了哪種型號以外,主要還是以水的處理工藝為主,不同的水處理工藝處理之后的純水水質是不一樣的。

        半導體工業純水,反滲透工藝,去離子處理

          目前市場上常見的水處理工藝有:反滲透技術、雙極反滲透、去離子水技術、edi超純水等,半導體工業用的純水主要有反滲透以及反滲透工藝,那這兩個水處理工藝哪一種更適合。

          反滲透水處理工藝可以去除水中96~99%左右的鹽物質,通過反滲透膜來截留水中含有的有機物、細菌、離子、污染物等來達到水凈化的目的。

          去離子水技術是通過交換樹脂去除水中的陰離子和陽離子,但是水中仍然會存在部分的可溶性的有機物,因此這是一種可用于對水質要求不是很高的工業制水。

          宏森環保對半導體工業純水工藝采用的是反滲透水處理工藝和去離子技術相結合的方式,其純水水質可達到18.2MΩ.CM。

          水處理工藝的選擇除了跟用水的水質有關以外還跟原水的水質有關,具體水處理工藝流程直接到宏森環保進行方案查詢。

         

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